| 属 地 |
东营 东营 |
专利申请号 |
2020105001701 |
专利权人 |
山东国瓷功能材料股份有限公司 |
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| 申请日 |
2020-06-04 |
授权日 |
2022-02-15 |
专利名称 |
一种低介电常数中空氧化铝/二氧化硅纳米复合材料及应用 |
| 关键词 |
一种低介电常数中空氧化铝/二氧化硅纳米复合材料,并进一步公开其制备方法及应用 |
应用领域 |
材料化学技术 |
创新点 |
本发明属于材料化学技术领域,具体涉及一种低介电常数中空氧化铝/二氧化硅纳米复合材料,并进一步公开其制备方法及应用。所述低介电常数中空氧化铝/二氧化硅纳米复合材料为具有闭合空腔结构的叠层壳体结构,通过在中空二氧化硅壳层外表面定向沉积氧化铝,其内层壳体为二氧化硅层,并在二氧化硅层表面沉淀生长氧化铝外壳壳体,有效结合了氧化铝与二氧化硅的优点,可同时发挥中空二氧化硅的低介电常数,低折射率,高频介电稳定性的优点,同时利用氧化铝材料高强度,抗化学侵蚀,热导率小,热膨胀系数低等优势,可适用于减反射领域及5G毫米波频段领域的性能要求。 |
| 技术分类 |
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标 签 |
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战兴产业 |
新材料产业 先进无机非金属材料 |
| 地 址 |
山东省东营市经济开发区辽河路24号 |
| 运营方式 |
普通许可 |
合作方式 |
普通技术转移 |
| 联系人 |
刘轩 |
联系电话 |
18254613120 |
电子邮箱 |
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| 详细说明 |
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