2021115400914：一种用于狭缝涂布设备的高均匀性涂头装置及其使用方法

专利名称	【2021115400914】一种用于狭缝涂布设备的高均匀性涂头装置及其使用方法
合同备案号	X2023210000071	备案日期	2023-08-08	许可人	中国科学院大连化学物理研究所
许可类型	排他许可	被许可人	中国核能电力股份有限公司
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