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专利名称 2012103649560一种原位清洁MOCVD反应腔室的方法
合同备案号 2018990000345 备案日期 2018-12-17 许可人 中微半导体设备(上海)有限公司
许可类型 独占许可 被许可人 南昌中微半导体设备有限公司
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