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2026-02-03
【201110375162X】一种分子尺度界面SiO
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的形成和控制方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011103295792】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201410024925X】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105424755】采用后栅工艺制备CMOS器件中接触孔的方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010102238586】一种半导体器件及其形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105732046】MOSFET及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
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【201210150203X】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011101500434】金属栅CMP后的制程监控方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012105217364】等平面场氧化隔离结构及其形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2009103076891】一种选择性去除TaN金属栅电极层的方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2018112916549】半导体器件与其制作方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012103329331】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
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【2014105732203】一种FINFET结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
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【2014104799155】一种半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011102128082】一种半导体器件结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012100673125】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2016101661180】一种后栅工艺MOS器件的制备方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2013101568402】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
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【2010102392733】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012102295249】半导体器件制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
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