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专利许可
专利名称
【
2013104387714
】
一种自对准接触孔刻蚀工艺方法
合同备案号
X2026990000024
备案日期
2026-02-03
许可人
中国科学院微电子研究所
许可类型
普通许可
被许可人
英特尔公司
浏览人次
9
备 注
【关 闭】
