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专利许可
专利名称
【
2018103524740
】
一种外延前硼注入复合双层外延的n-MOSFET制备方法
合同备案号
X2025980050416
备案日期
2025-12-31
许可人
北京工业大学
许可类型
开放许可
被许可人
上海亿为科技有限公司
浏览人次
8
备 注
【关 闭】