首页
专利运营库
企业需求库
融资需求
开放许可
专利许可
专利许可库
专利许可备案
专利许可变更
专利许可注销
许可类型:
独占许可
排他许可
普通许可
分许可
开放许可
其他
许可人:
被许可人:
关键词:
2026-02-03
【2010102151258】一种半导体器件及其形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2009100776204】一种双金属栅功函数的调节方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012102416991】一种低功函数金属栅形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2016103422061】一种掩膜图形的优化方法、最佳焦平面位置测量方法及系统 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012104320086】半导体结构及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2015101478180】侧墙形成方法和包括侧墙的半导体器件 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012102473852】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012101220372】浅沟槽隔离化学机械平坦化方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012103430356】高电子迁移率晶体管及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2013103886310】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2014101417017】一种半导体器件的制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2009102427693】半导体材料鳍片 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012101295877】双金属栅极CMOS器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2014103459601】一种锗的化学机械抛光方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010101834500】一种适用于NMOS器件的金属栅功函数的调节方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2019109921974】一种接触孔制备方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2018114361732】CMOS器件及其制备方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2015105720910】一种形成鳍的方法及结构 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2015106279183】一种P型鳍式场效应晶体管及制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010101100297】一种体接触器件结构及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
首 页
上一页
31/21395(共427882条)
下一页
尾 页
跳转