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2026-02-03
【2011100991335】浅沟槽隔离结构、其制作方法及基于该结构的器件 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012102416991】一种低功函数金属栅形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105272606】应力隔离沟槽半导体器件的形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2015103253656】一种半导体器件的制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105269162】一种半导体结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011100059247】半导体器件及其制作方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2013104770788】一种MOSFET结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105320614】晶体管及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2013102696978】半导体器件制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012102106001】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201310478631X】一种FinFET结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012105103522】一种后栅工艺假栅的制造方法和后栅工艺假栅 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014102175922】一种平坦化的工艺方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010106016999】半导体器件的制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2013101433496】半导体器件制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2013104770881】一种FINFET制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105319852】接触电极制造方法和半导体器件 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105743572】半导体结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2015105720910】一种形成鳍的方法及结构 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010101999819】一种用于CMOS器件的双金属栅双高介质的集成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
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