首页
专利运营库
企业需求库
融资需求
开放许可
专利许可
专利许可库
专利许可备案
专利许可变更
专利许可注销
许可类型:
独占许可
排他许可
普通许可
分许可
开放许可
其他
许可人:
被许可人:
关键词:
2026-02-03
【2013104784259】一种非对称FinFET结构及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2013101512873】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012103036913】一种半导体结构及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2009100776242】一种调节金属栅的栅功函数的方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010102692672】半导体结构的制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2019113565455】一种确定光刻工艺节点禁止周期的方法及仿真方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2011102951898】制作鳍式场效应晶体管的方法以及由此形成的半导体结构 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012103094980】栅电极的形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2015106718072】一种半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010102238586】一种半导体器件及其形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2017112902448】半导体装置及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2011101954390】隔离结构以及半导体结构的形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2015106002166】半导体器件 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2011103295792】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010102234706】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010105424755】采用后栅工艺制备CMOS器件中接触孔的方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2009102445155】鳍式晶体管结构及其制作方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2013100317854】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010105530504】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【201110375162X】一种分子尺度界面SiO
2
的形成和控制方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
首 页
上一页
33/21395(共427882条)
下一页
尾 页
跳转