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2026-02-03
【2014100237125】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201210106806X】鳍形场效应晶体管制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012100677732】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012105065060】P型MOSFET及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012102106001】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012104472591】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2015107466312】包括带电荷掺杂剂源层的半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201610663545X】一种鳍式场效应晶体管及其制备方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014104049021】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012102972297】浅沟槽隔离制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105272606】应力隔离沟槽半导体器件的形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201810596940X】半导体器件与其制作方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012103316261】一种浅沟槽隔离结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012100809962】一种半导体结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011101708752】MOSFET及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201010232797X】积累型CMOS器件的制造方法及其结构 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105410305】一种提高电子束曝光效率的方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012101475545】半导体器件制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105272733】半导体结构及其制作方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201010586003X】可调节沟道应力的器件与方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
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