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2026-02-03
【2011100949677】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014107901051】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2013103589780】一种栅堆叠及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014108298146】鳍结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2013102770406】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011102255247】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105017123】半导体结构的制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014103398665】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201611025461X】具有连续侧墙的半导体设置及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014104090384】一种源漏外延工艺的监测方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2017113031815】FinFET及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011103914472】半导体器件制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105743572】半导体结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011101824236】多栅器件的形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014101466899】一种40nm以下尺寸的器件的化学机械平坦化的工艺方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012101358575】半导体结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2016101661180】一种后栅工艺MOS器件的制备方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2013101568402】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2015101478015】栅导体层及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011101652418】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
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