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2026-02-03
【2011102576587】后栅工艺中假栅的制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010106174193】半导体器件的形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010106174189】半导体器件及其形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010101598955】半导体器件及其形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012105061892】FinFET及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2015105614019】半导体器件制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012102295249】半导体器件制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010102335497】p型半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2015102923330】一种半导体器件的制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012103977917】半导体结构及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012100674382】半导体器件制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2011100205366】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010106017440】层间电介质层的平面化方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2014107901244】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2010105525898】沟槽隔离结构及其形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2015100260291】一种鳍的形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2014100891129】一种半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010101834500】一种适用于NMOS器件的金属栅功函数的调节方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2014103606901】半导体器件制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2010102307711】半导体器件结构及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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