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2026-02-03
【2010101850255】一种半导体结构及其形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014100084416】一种Fin-FET的沟槽隔离的形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105017123】半导体结构的制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010102238586】一种半导体器件及其形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010105274705】半导体器件制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2019101076316】金属栅功函数的调节方法及MOSFET的制备方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014104596146】一种FinFET结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2019107802947】一种氧化钒薄膜的制备方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012102494295】半导体器件制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2011103035935】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2015106347867】半导体器件制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2014104595139】半导体器件制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201510516131X】具有均匀阈值电压分布的半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012102468303】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【201110189100X】MOSFET及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2013100311561】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012100558273】围栅结构的鳍式半导体器件的制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2012104478511】鳍结构及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2010101565701】一种源漏区、接触孔及其形成方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
2026-02-03
【2015101484266】半导体器件及其制造方法 （许可人：中国科学院微电子研究所）
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