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2026-02-03
【2012102468303】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012104413930】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012101124943】提高化学机械平坦化工艺均匀性的方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
2026-02-03
【2012101295877】双金属栅极CMOS器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2014104799155】一种半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2010105272381】应力隔离沟槽半导体器件及其形成方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2017111652233】一种鳍式场效应晶体管及其制备方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2012103334700】半导体器件结构及其制作方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2014101961769】一种半导体器件的制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2013103398196】一种MOSFET结构及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2012101170195】半导体结构及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2020100573403】一种获取套刻误差量测数据的方法及装置 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2014104648812】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2013102866697】测量MOS器件侧墙厚度相关参数的结构和方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2014105689468】CMOS器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2013100501250】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2015107465536】包括带电荷穿通阻止层以降低穿通的半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2014103607035】半导体器件制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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【2012103330818】半导体器件及其制造方法 (许可人:中国科学院微电子研究所)
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